3月31日消息，關于蘋果二十周年紀念機型iPhone 20的更多細節近日持續曝光。消息源@phonefuturist在X發文稱，這款新機將在外觀設計上迎來顯著變化，主打“真全面屏”形態，嘗試實現更接近一體化玻璃面板的視覺觀感。
從目前披露的信息來看，iPhone 20將采用約1.1毫米的極窄屏幕邊框，并輔以更加圓潤的機身邊角設計，使正面觀感更加統一和簡潔。需要指出的是，這里的“邊框”更可能指屏幕黑邊寬度，而非機身中框厚度。在此基礎上，新機還有望引入四曲面瀑布屏方案，屏幕四側邊緣向中框自然彎折，從視覺上進一步壓縮邊界，強化沉浸體驗。
在關鍵形態上，蘋果計劃在該機上同時部署屏下前置攝像頭與屏下Face ID模組，將原本位于劉海或開孔區域的傳感器全部隱藏至屏幕下方，從而實現正面無開孔設計。若方案順利落地，整塊屏幕將保持完整顯示，屏占比有望接近極限水平，整體視覺更趨純粹。
圍繞具體實現路徑，蘋果可能通過優化子像素結構來提升透光能力，例如在Face ID區域構建特殊透光層，并結合算法補償維持顯示均勻性；同時引入微透鏡結構以提升紅外光穿透效率。前置攝像頭部分，則可能通過高透OLED像素設計以及瞬時降低發光干擾的方式，提高進光量并改善成像表現。
不過，這一系列屏下方案仍存在不小挑戰。尤其是在面容識別精度與前攝成像質量方面，屏幕對光線的阻隔仍會帶來影響。例如紅外光在屏下環境中的散射問題，會直接影響3D人臉識別的準確率，而前攝在暗光環境下的進光能力也尚未達到理想水平。
也有消息指出蘋果可能采取分階段推進策略，在更早機型上先行測試部分屏下技術，例如屏下Face ID搭配打孔前攝的過渡方案，為最終的完全隱藏形態積累經驗。考慮到該紀念機型距離量產仍有約18個月時間，研發團隊仍具備一定窗口期對關鍵技術進行優化。
編輯點評：綜合現有爆料來看，iPhone 20更像是一款強調形態革新的里程碑產品。屏下攝像頭與Face ID的成熟度，將成為其成敗關鍵所在，若技術瓶頸順利突破，其在外觀設計上的提升值得期待。
