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阿斯麥揭示EUV光源技術突破 有望在2030年前實現芯片產量提升50%

   時間:2026-02-23 23:03:18 來源:格隆匯編輯:快訊 IP:北京 發表評論無障礙通道
 
格隆匯2月23日|阿斯麥(ASML.US)的研究人員表示,他們已找到一種方法,可提升一款關鍵芯片制造設備光源的功率,使芯片產量在本十年末提升高達50%。阿斯麥是全球唯一一家生產商用極紫外光刻(EUV)設備的公司,該設備是臺積電、英特爾等芯片制造商生產先進計算芯片的關鍵工具。阿斯麥負責極紫外光刻的首席技術專家Michael Purvis在接受采訪時表示,“這并非噱頭,也不是那種只能維持極短時間演示的把戲。該系統能在完全符合客戶實際使用條件的前提下,穩定輸出1000瓦功率。”
 
 
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