比利時校際微電子研究中心（imec）近日宣布，其長期技術合作伙伴ASML已向其交付了一臺高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）光刻系統——EXE:5200。這臺設備將被部署在imec位于比利時魯汶的總部，為亞2納米（sub-2nm）制程的中試線項目NanoIC提供核心技術支持。
據介紹，EXE:5200是當前半導體制造領域最先進的光刻設備之一，其高數值孔徑設計可顯著提升光刻分辨率，為開發亞2納米制程工藝奠定基礎。imec與ASML的合作歷史悠久，此前雙方已在荷蘭費爾德霍芬的ASML總部聯合建立了High NA EUV光刻實驗室，與全球半導體產業鏈伙伴共同推進下一代圖案化技術的研發。
此次新設備的引入將進一步拓展imec的研發能力。機構方面表示，EXE:5200的加入不僅為實驗室提供了更高的工藝自由度，還使其具備接近量產級別的技術驗證條件，有助于加速亞2納米制程從實驗室到量產的轉化進程。
根據規劃，imec將對EXE:5200系統進行全面認證，預計認證工作將于2026年第四季度完成。這一時間節點與全球半導體行業向更先進制程節點邁進的步伐保持同步，或將為行業技術迭代提供重要參考。
