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新型高性能二維半導體材料研發獲突破

   時間:2026-04-09 13:25:27 來源:格隆匯編輯:快訊 IP:北京 發表評論無障礙通道
 
格隆匯4月9日|據科技日報,近日,國防科技大學和中國科學院金屬研究所聯合研究團隊在新型高性能二維半導體晶圓級生長和可控摻雜領域取得重要突破,有望為后摩爾時代自主可控的芯片技術提供關鍵材料和器件支撐。相關成果近日在線發表于國際頂級期刊《國家科學評論》。
 
 
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