格隆匯2月24日｜ASML研究人員表示，他們已找到一種方法來增強關(guān)鍵芯片制造設(shè)備光源的功率，到本十年末可使芯片產(chǎn)量提高最多50%，以幫助這家荷蘭公司在與崛起的美中對手的競爭中保持領(lǐng)先。ASML負責EUV光源技術(shù)的首席技術(shù)專家Michael Purvis稱，新系統(tǒng)能在完全符合客戶現(xiàn)場所有要求的前提下穩(wěn)定輸出1000瓦功率，到本十年末，每臺設(shè)備每小時可處理約330片晶圓，較目前的220片顯著提升。

EUV光刻機對芯片生產(chǎn)至關(guān)重要，在美國，至少有兩家初創(chuàng)公司——Substrate和xLight——已籌集數(shù)億美元資金，致力于開發(fā)與ASML技術(shù)抗衡的美國產(chǎn)品，其中xLight獲得了特朗普政府提供的資金支持。